3C工程生產過程中使用了大量有機和無機物，包括許多有毒有害物質，對環境危害較為嚴重，如不加以控制，將會產生較大的環境污染。半導體行業中使用的清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑中含有大量有機物成分。 在工藝過程中，這些有機溶劑大部分通過揮發成為廢氣排放。

   【廢氣風量】：90000m3/h    

     【廢氣濃度】：100~450mg/m3                                 

     【廢氣組分】：醛類、氨、三甲胺、硫化氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫

     【采用工藝】：沸石轉輪+rto焚燒爐

    每一次我們不保證提供最低價格方案，但每一次我們都保證提供優秀的產品品質，服務。